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專利資訊

年度
111
領域
服務創新
執行單位
工研院院本部
專利名稱
出光方法及出光裝置
計畫名稱
工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人
胡平浩、呂紹銓、李炫璋、周柏寰、李閔凱
核准國家
中國大陸
專利性質
發明
獲證日期
20220219
專利期間
20220111~20220111
技術摘要(中)
一種出光方法,係將一雷射光束依序通過至少一偏移組件與一聚焦組件,且藉由調控機構作動該偏移組件,令該雷射光束產生偏移,以於鑽孔製程中,該雷射光束能依需求快速產生可控制及任意形狀的開孔。
技術摘要(英)
A light emitting method comprises a laser beam passing through at least one offset assembly and a focusing assembly in sequence and operating the offset assembly by a control mechanism to cause the laser beam to be offset so that the laser beam can quickly produce any shape of the controllable openings in the drilling process.
聯絡人員
趙淑華
電話
03-5918707
傳真
03-5820467
電子信箱
Sophia_Chao@itri.org.tw
參考網址
更新日期:2024-08-15

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